临沂盛华力拓电化学技术有限公司

GF-995 全光亮化学镀镍工艺

◆ 简介: GF-995全光亮化学镀镍,是以次磷酸盐为还原剂,经自催化电化学反应而沉积出镍磷合金镀层的新技术。因为镀覆过程是在无电流通过的条件下进行的,所以称无电解镀镍。不同于传统的电镀工艺,不采用剧毒的氰化物、铬酸等有害物质,除镍离子外,其余为食品级有机酸等,不污染环境。 GF-995 全光亮化学镀镍具有镀速高,循环使用寿命长,沉镀能力和分散能力极好,镀层外观全光亮等特点,本工艺的主要特点如下:溶液稳定性好,可以循环使用,使用寿命达到8-10循环,1个循环的含义是每升镀液将全部镍镀出再补充到原来的镍含量称为1M.T.O.。沉积速度快,达到18-23μm/hr, 提高了生产效率。镀层外观光亮,具有镜面光泽,镀液含专有光亮剂。镀层防腐性能高。对复杂零件具有优异的均镀能力。镀层孔隙率低。操作简单,使用方便。优异的耐磨性能,经热处理镀层硬度可达1050 VHN。 GF-995化学镀镍适用于大多数材料的零部件,如钢铁、铸铁、铝合金、铜及铜全金、不锈钢、钕铁硼粉末烧焙件、钛合金以及塑料、陶瓷等非金属材料。 ◆ GF-995全光亮化学镀镍层的性能磷含量 6-9%(wt) 显微结构 非晶态Ni-P合金,非磁性 熔点 860-880℃ 硬度 镀态 450-550VHN(45-48 RCH) 热处理后 950-1050 VHN 结合力 钢或铝上结合强度400 Mpa以上,大大高于电镀镍、铬 内应力 钢上内应力低于7 MPa 电阻率 约75μΩ.cm 耐蚀性 6-8μm可通过5% NaCl 24小时9级连续盐雾试验。

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